Per il monitoraggio della contaminazione di Acidi, Ammine e VOC's a livello di sub ppv in Clean Room ETG ha realizzato il sistema ORION 3100. Un importante ordine e' stato commissionato a ETG da una societa' elettronica Asiatica produttrice di Semiconduttori. Il sistema ORION 3100 effettua il monitoraggio in continuo di 16 punti per il controllo di processo dei wafer di silicio.
ETG ORION 3100 e' un sistema avanzato multipunto per la rilevazione di HF,HCl,NH3 e VOC's a livello di sub ppb.
IL sistema cosidetto AMC acronimo di Airborne Molecular Contamination senza l'utilizzo di reagenti o sistemi indiretti effettua l'analisi veloce dei gas contaminanti.
Nell'industria dei semiconduttori la presenza, anche a bassissime concentrazione dei composti sopracitati rischia di compromettere il fotolito dei wafer creando quindi problemi di processo e di produzione
Fonte: www.etgrisorse.com
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